4、半導(dǎo)體、集成電路生產(chǎn)的潔凈室要求

　　半導(dǎo)體材料提純作為發(fā)展半導(dǎo)體器件的重要基礎(chǔ)。由于大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的工藝要求，為得到高純度的硅材料，原料和中間媒介的高純度和生產(chǎn)環(huán)境的潔凈度成為影響產(chǎn)品質(zhì)量的一個(gè)突出問題。

      集成電路芯片的成品率與芯片的缺陷密度有關(guān)，而芯片的缺陷密度與空氣中粒子個(gè)數(shù)有關(guān)。因此，集成電路的高速發(fā)展，不僅對空氣中控制粒子的尺寸有級高的要求，而且也需進(jìn)一步控制粒子數(shù)；同時(shí)，對于超大規(guī)模集成電路生產(chǎn)環(huán)境的化學(xué)污染控制也有相關(guān)的要求。

　　5、化妝品、食品生產(chǎn)的潔凈室要求

     現(xiàn)代化妝品中大多含有蛋白質(zhì)、維生素、氨基酸、植物萃取液等，這些組分為細(xì)菌、霉菌等微生物的滋生、繁殖提供了有利條件。因此，微生物的污染是影響化妝品質(zhì)量的重要因素。化妝品生產(chǎn)過程中使用的潔凈室的控制對象主要是塵粒、微生物，與藥品生產(chǎn)用的潔凈室要求類似。目前，化妝品生產(chǎn)用潔凈室的空氣潔凈度等級可參照藥品的GMP規(guī)范進(jìn)行。

　　在食品工廠的生產(chǎn)過程中，設(shè)施的嚴(yán)格管理是確保食品的安權(quán)衛(wèi)生，防止發(fā)生由于病原大腸菌、沙門氏菌造成的食品中毒或飲料中混入霉菌等的重要手段。20世紀(jì)90年代至今，WHO及一些發(fā)達(dá)郭家引入HACCP（危害分析眾點(diǎn)控制點(diǎn)）系統(tǒng)，制定了利用衛(wèi)生管理生產(chǎn)過程的食品生產(chǎn)承認(rèn)制度。

      潔凈室與電子、制藥、生物工程、醫(yī)療衛(wèi)生、食品、化妝品和君工行業(yè)密不可分，提供滿足生產(chǎn)需要的受控環(huán)境，直接影響產(chǎn)品的質(zhì)量。但因各行業(yè)對潔凈室的潔凈程度要求是不一致的，因此在進(jìn)行潔凈室設(shè)計(jì)時(shí)應(yīng)遵守相關(guān)的標(biāo)準(zhǔn)，確保潔凈環(huán)境達(dá)到所需的標(biāo)準(zhǔn)。

五大行業(yè)對潔凈室凈化環(huán)境的要求(上)

如何在車間凈化工程中確定正負(fù)壓？